石墨烯微晶片分散到芳纶原液  招商

石墨烯微晶片分散到芳纶原液，剪切法石墨烯DMAC分散机，立式德国进口分散机，IKN改进型研磨分散机，功能性石墨浆料分散机，耐腐蚀可控温研磨分散机，上海依肯机械研磨分散机

石墨烯微晶片分散到芳纶原液里，颗粒越均匀越细越好

芳纶DMAC液体，较粘稠

DMAC有轻微腐蚀性，要求设备耐腐蚀

实验温度控制在50℃以下

石墨烯和DMAC混合经依肯CMSD系列研磨分散机循环分散粒径可达14微米以下，循环时间延长，粒径越小；设备转速调快，粒径越小；使用剪切力更强的分散头，粒径越小。。。。详询上海依肯机械  林万翠林工

石墨烯的分散难点

石墨烯分散有一部分企业采用超声波或者高速分散机进行分散处理，但是存在许多弊端。超声分散难以规模化，高速分散难以保证浆料的均匀度以及生产效率低。面对这个问题上海IKN研发出研磨式高剪切分散机，将胶体磨和分散机合二为一，先研磨打开二级团聚体，然后瞬间进行分散均质，保证石墨烯浆料的细化和分散均匀。尤其对于橡胶行业，采用传统间隙的分散设备无法均匀稳定将石墨烯分散到橡胶基体中，必须采用管线式分散设备，以确保物料更充分的剪切、分散。

随着纳米粉体分散的进一步发展，上海IKN研发出zui新的分散设备-三级分散机。结构为三组分散头定转子，并且转速高达14000rpm，定转子经密度高，分散效率快，分散效果好。

石墨烯微晶片分散到芳纶原液，剪切法石墨烯DMAC分散机

上海IKN技术，du特创意，融化理念。将IKN高剪切分散机进行进一步的改良，在原来ERS2000系列的基础上，将单一的分散机分散头模块，改良成两级模块，加入了一级锥形磨头。从而形成改良型的分散机，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的分散机也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

石墨烯微晶片分散到芳纶原液，剪切法石墨烯DMAC分散机相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。设备结构：

第yi级由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

ikn研磨分散机特点：

1、胶体磨+分散机二合一设计：粉碎室设有三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。

  2、间隙可调，研磨缝隙调节可以改变适用于特定工艺

3、设备运转速度高达14000转，是国nei普通分散机的4-5倍，gao效细化分散研磨物料

4、机身腔体采用三层夹套设计可以冷却也可以加热

5、采用德国双端面机械密封，在保证有冷却水的情况下，可以24小时连续不间断工作

6、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，ji大程度降低了风险

CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%

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